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题名:
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集成电路制造技术 / 王蔚，田丽，任明远编著 , |
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ISBN:
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978-7-121-11751-0 价格： 39.80 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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395页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 电子工业出版社 出版日期： 2010.09 |
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内容提要:
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本书主要内容包括：绪论；单晶硅特性；硅片的制备；外延；热氧化；扩散；离子注入；化学气相淀积；物理气相淀积；光刻工艺；光刻技术；刻蚀技术等。 |
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主题词:
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集成电路工艺 |
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主题词:
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集成电路工艺 |
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中图分类法:
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TN405 版次： 4 |
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主要责任者:
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王蔚 编著 |
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主要责任者:
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田丽 编著 |
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附注:
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电子信息与电气学科规划教材·电子科学与技术类 |