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题名:
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真空镀膜
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李云奇编著
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ISBN:
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978-7-122-12780-8
价格：
85.00
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语种:
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chi
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载体形态:
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310页
图
26cm
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出版发行:
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出版地：
北京
出版社：
化学工业出版社
出版日期：
2012.08
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内容提要:
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全书共分为11章，内容包涵了真空镀膜中物理基础，各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求，各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控等。
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主题词:
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真空技术
镀膜
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主题词:
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真空技术
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主题词:
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镀膜
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中图分类法:
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TN305.8
版次：
5
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主要责任者:
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李云奇
编著
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