|
题名:
|
多弧离子镀沉积过程的计算机模拟 / 赵时璐著 , |
|
ISBN:
|
978-7-5024-6227-7 价格： 26.00 |
|
语种:
|
chi |
|
载体形态:
|
232页 图 21cm |
|
出版发行:
|
出版地： 北京 出版社： 冶金工业出版社 出版日期： 2013.04 |
|
内容提要:
|
本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章，主要内容包括：绪论；真空镀膜技术的介绍；多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础；多弧离子镀物理过程的分析；计算机模拟技术；数学模型的建立；程序的编制等。 |
|
主题词:
|
计算机模拟 应用 |
|
主题词:
|
计算机模拟 |
|
主题词:
|
离子镀 |
|
中图分类法:
|
TG174.444-39 版次： 5 |
|
主要责任者:
|
赵时璐 著 |